Focused Ion Beam System

FIB e Dual Beam

Il JIB-4000 è un sistema di microfabbricazione e d' osservazione a fascio ionico focalizzato, costituito da una colonna ionica ad alte prestazioni.

 

JIB-4000 Focused Ion Beam Milling and Imaging System
JIB-4000 Focused Ion Beam Milling and Imaging SystemJIB-4000 Focused Ion Beam Milling and Imaging System

Il JIB-4000 è un sistema di microfabbricazione a fascio ionico ideale per la preparazione di campioni per analisi STEM/TEM e per l' ottenimento di sezioni trasversali di campioni da analizzare al SEM.

E' particolarmente utile per failure analysis nel campo dei semiconduttori. Il JIB-4000 supporta l' installazione simultanea di un side entry goniometer stage per campioni TEM e un bulk specimen stage.

Grazie all' aumentata risoluzione e all' alta corrente, il sistema è capace di acquisire immagini in alta risoluzione ed elevata velocità di taglio. Il JIB-4000 è un' unità compatta con un efficiente sistema di risparmio energetico, che incorpora una sorgente ionica unica sviluppata sfruttando le tecnologie JEOL per TEM e SEM.

La possibilità di utilizzare gli stessi portacampioni dei TEM JEOL semplifica e riduce al minimo la manipolazione del campione dalla fase di taglio fino all 'acquisizione delle immagini. Il portacampione "bulk" è utile per la preparazione di sezioni trasversali di campioni da analizzare al SEM.

Caratteristiche - prestazioni di fresatura eccezionali con il miglior rendimento del settore - Unità compatta con un ingombro inferiore del 20% (rispetto a modelli JEOL comparabili) - Bassa tensione di accelerazione simile a sistemi best-in-class - sistema di navigazione sul campione (opzionale) per una rapida identificazione delle posizioni di visualizzazione
Ion source Ga liquid metal ion source
Accelerating voltages 1 to 30 kV (in 5 kV steps)
Magnification ×60(for searching for a field)
×200~×300,000
Image resolution 5 nm (at 30 kV)
Beam current Up to 60 nA (at 30 kV)
Movable aperture 12 steps (motor drive)
Ion beam shapes during milling Rectangle, line, and spot


Specimen stage Bulk-specimen 5 axis goniometer stage
X:±11 mm
Y:±15 mm
Z:0.5 ~ -23 mm
T:-5 ~ +60°
R:360°
Maximum specimen size 28 mm dia. (13 mm H)/ 50 mm dia (2 mm H)


Optional attachments

  • Gas injection system 2 (IB-02100GIS2)
  • Carbon Deposition Cartridge (IB-52110CDC2)
  • Tungsten Deposition Cartridge (IB-52120WDC2)
  • Platinum Deposition Cartridge (IB-52130WDC2)
  • Side Entry Goniometer Stage (IB-01040SEG)
  • Probe Current Detector (IB-04010PCD)
  • Operation Panel (IB-05010OP)
  • Stage Navigation System (IB-01200SNS)
  • FIB Tip-on Holder (EM-02210)
  • FIB Bulk-Specimen Holder (EM-02220)
  • FIB Bulk-Specimen Holder 1 (EM-02560FBSH1)
  • FIB Bulk-Specimen Holder 2 (EM-02570FBSH2)
  • FE-SEM Specimen Holder Adapter (EM-02580FSHA)
  • Shuttle Retainer (EM-02280)
  • Atmosphere Pick-up System (EM-02230)