Litografia Elettronica

Strumenti per semi-conduttori

Ampia gamma di strumenti di e-beam,
per le maschere, la scrittura litografica diretta,
i volumi di produzione, la ricerca e lo sviluppo
avanzato.

JBX-3050MV
JBX-3050MVJBX-3050MV
La serie JBX-3050MV è un sistema di litografia a fascio di elettroni per la fabbricazione di maschere / reticoli che soddisfa la regola di progettazione di 45-32 nm. Questo sistema è dotato di un pattern di scrittura ad alta velocità, alta precisione e alta affidabilità, ottenuto mediante una tecnologia senza eguali.
Metodo di Esposizione
 Vector scan, Variable shaped beam
Tensione d'accelerazione 50 kV
Sorgente elettronica
 LaB6 single crystal
Pattan </= ± 4 nm (3δ)
Accuratezza di posizionamento
 </= ± 10 nm