Litografia Elettronica

Strumenti per semi-conduttori

Ampia gamma di strumenti di e-beam,
per le maschere, la scrittura litografica diretta,
i volumi di produzione, la ricerca e lo sviluppo
avanzato
.

JBX-5500FS
JBX-5500FSJBX-5500FS
Compatto e conveniente New Direct Write E-Beam System

Il nuovo JBX-5500FS è un conveniente sistema a scrittura diretta ad alta risoluzione, controllato mediante un PC e semplice da utilizzare. Grazie al suo spot beam, vector scan system, il JBX-5500FS è in grado di scrivere patterns con un' ampiezza di linea minima di 10nm a 50kV.

Il JBX-5500FS può raggiungere accuratezze di scrittura in due modi distinti:

    High Resolution Mode: Overlay accuracy di < 40nm (3 sigma) può essere ottenuta a 50kV.

    High Speed Mode: consente di raggiungere 1mm di campo a 50kV o 2mm a 25kV.

Il JBX-5500FS può ospitare parti/pezzi e wafer di dimensioni fino a 100mm che vengono caricati mediante un single wafer manual loader.
Modalità di Esposizione
Vector scan, spot beam
Tensione d'accelerazione
25kV / 50 kV
Sorgente Thermal Field Emission
Minima dimensione del fascio
2nm, 5nm, 8nm
Massima dimensione di scrittura

High resolution mode:
100µm x100µm (50 kV)
200µm x200µm (25 kV)

High speed mode:
1000µm x1000µm (50 kV)
2000µm x2000µm (25 kV)

Dimensione del campione
fino a 100mm dia.
Beam Positioning DAC 18 Bit