Litografia Elettronica

Strumenti per semi-conduttori

Ampia gamma di strumenti di e-beam,
per le maschere, la scrittura litografica diretta,
i volumi di produzione, la ricerca e lo sviluppo
avanzato
.

JBX-6300FS
JBX-6300FSJBX-6300FS
Il JBX-6300FS, dotato di una sorgente ad emissione di campo con un cristallo di  ZrO / W, è un sistema di litografia elettronica dotato di Vector Scan Method per la deflessione del fascio. La deflessione del fascio impiega 19 bit DAC, ed è possibile selezionare una tensione d' accelerazione di 25 kV, 50kV o 100kV. Lo stage di lavoro è guidato dal step-and repeat-method, e possono essere caricati wafer fino a 200 mm.
Un auto-loader costituito da un massimo di 10 cassette può essere fornito per il funzionamento in continuo.

Il sistema operativo (OS) del computer per il controllo della litografia e la realizzazione del lavoro è basato su una piattaforma UNIX. La combinazione di UNIX e GUI (Graphical User Interface) permette un' elevata efficienza di funzionamento.

 

Metodo di Esposizioned Vector scan, spot beam
Tensione d'accelerazionee 25 kV / 50 kV / 100 kV
Electron Gun Emitter ZrO/W (Schottky)
Dimensione minima del fascio
2nm
Sistema di caricamento
Auto loader
Dimensione del campione
fino a 200mm dia.