Litografia Elettronica

Strumenti per semi-conduttori

Ampia gamma di strumenti di e-beam,
per le maschere, la scrittura litografica diretta,
i volumi di produzione, la ricerca e lo sviluppo
avanzato
.

JBX-9500FS
JBX-9500FSJBX-9500FS
Il JBX-9500FS è un sistema di litografia a fascio di elettroni con spot beam, Vector scan, e uno stage step and repeat. In grado di variare ampiamente la dimensione del fascio, il sistema è versatile nelle sue applicazioni, dalla ricerca di base di elementi di prova per la produzione di dispositivi ottici, alla ricerca e sviluppo per maschere da esporre ad alte tensioni d' accelerazione. Il suo sistema di correzione dinamica elimina la sfocatura derivante dalla deflessione del fascio.